세미나

Atomic Layer Deposition of Perovskite Thin Films For DRAM Capacitors

  • 일시 2025-03-20 16:00 ~ 18:00
  • 장소 광개토관 205
  • 연사 이웅규 교수
  • 소속 숭실대학교
발표 내용 :
 
ALD(원자층 증착) 공정을 통해 유전율이 높은 소재를 개발함에 있어 존재하는 문제점들에 대해 설명함.
Sr 기반 페로브스카이드 박막의 ALD 역사에 대한 개요와 SrF2 ALD를 이용한 Sr(Ti,Ru)O3 박막 합성에 관련된 최근 연구 결과를 소개함