본 발명은 유무기 복합 페로브스카이트의 패터닝 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로 포토리소그래피 공정을 적용할 때 페로브스카이트의 손상을 방지할 수 있는 유무기 복합 페로브스카이트의 패터닝 방법에 관한 것이다.

 

본 발명은 포토 공정 및 식각 공정에서 페로브스카이트층의 손상 및 붕괴를 방지할 수 있는 유무기 복합 페로브스카이트 패터닝 방법을 제공한다.   본 발명의 해결과제는 이상에서 언급된 것들에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 해결과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.

 

본 발명은 포토 공정 및 식각 공정에서 페로브스카이트층의 손상 및 붕괴를 방지할 수 있는 유무기 복합 페로브스카이트 패터닝 방법을 제공한다. 본 발명의 실시예는, 기판 상에 페로브스카이트층을 형성하는 단계와, 상기 페로브스카이트층의 상부에 보호층을 형성하는 단계와, 상기 보호층의 상단에 포토레지스트층을 형성하는 단계와, 상기 포토레지스트층에 대한 노광 및 현상을 적용하는 단계; 및 상기 노광 및 현상에 의해 형성된 상기 포토레지스트층의 패턴에 대응하여 상기 보호층 및 상기 페로브스카이트층을 식각하는 단계를 포함하는 유무기 복합 페로브스카이트의 패터닝 방법을 제공한다. 본 발명에 따른 유무기 복합 페로브스카이트 패터닝 방법은 페로브스카이트층의 상부에 보호층을 형성함으로써 포토리소그래피 및 식각 공정에서 페로브스카이트층의 손상 및 붕괴를 방지할 수 있다.