연구 Highlight
본 발명은 레이저 기반 직접 기록 리소그래피 시스템에 관한 것으로, 보다 상세하게는 마스크리스 리소그래피를 짧은 시간에 간편하고 저렴한 비용으로 제조할 수 있는 레이저 기반 직접 기록 리소그래피 시스템에 관한 것이다.
일반적으로 마스크리스 리소그래피(maskless lithography)는 반도체 등 소자 제조 공정을 단순화할 수 있는 장점을 가지고 있다. 즉, 마스크 없이 포토리소그래피 공정을 진행할 수 있다면 마스크 제작에 따른 시간과 비용을 줄이고, 다양한 패턴의 소자를 빠르고 효과적으로 제작할 수 있다.
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